新着情報

学内施設の利用について(学生の皆さんへ)

2020年06月04日

学生の皆さん

5月22日にお知らせした「6月8日からの学部4年生、修士2年生、博士課程在学者につき、卒業研究、修了研究、博士論文、就職活動のための学内施設の一部利用を認めることについて」利用施設、利用ルールなどが確定しましたので、お知らせします。
全ての施設に共通するルールを「施設使用共通ルール」に、学部共通の施設を「学部共通施設使用ルール」にまとめてあります。
また、学生の立入可能区域については「学生立入可能区域」にまとめてあります。
学科施設に関しては、それぞれ学科教員から対象学生へ施設利用ルールを連絡します。

今回利用が認められる施設は以下の通りです。

1:学部共通施設
・図書館
・金属機械工房、木工・多目的工房
・プロトタイピングルーム
・ギャラリー
・共通工房C

※項番1については、「学部共通施設使用ルール」を参照してください。(図書館以外は事前予約が必要です)

2:プロダクトデザイン学科施設
・402、404プロダクトデザインアトリエ
・テキスタイル各工房

3:視覚デザイン学科施設
・撮影スタジオA
・プリンティングルーム
・映像編集室
・オーディオスタジオ
・DDアトリエ

4:美術・工芸学科施設
・鍛金、彫金、鋳金、ガラス各工房
・絵画、版画、各工房及び彫刻アトリエ
※項番2~4については、学科教員から対象学生へ施設利用ルールを連絡します。

今後、他の施設、学年についても段階的に緩和を進める予定です。決定次第パレット、HPを通じてお知らせします。

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